高反射、吸紫外陶瓷釉料及使用该陶瓷釉料制备陶瓷聚光腔的方法

  本发明公开一种高反射、吸紫外陶瓷釉料，是在100重量份石英质基础釉料中添加5～20重量份稀土材料，再添加水和甲基纤维素形成釉浆，釉浆施于陶瓷聚光腔坯体表面，低温烘干后于1160-1200℃下烧釉制成陶瓷聚光腔，所述稀土材料为CeO#-[2]、La#-[2]O#-[3]和Sm#-[2]O#-[3]中的一种或两种及两种以上的组合。

 本发明提供的高反射、吸紫外陶瓷釉料可明显的改善普通陶瓷聚光腔存在的缺点，具有耐强激光辐照、高绝缘、耐腐蚀、易清洗，吸紫外的特点。